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上海微电子实现22nm光刻机的研发

发布日期:2020-09-04 15:22:19 来源: 点击量:26

在我国对半导体材料的要求超出全世界三分之一,19年单是集成化芯片進口额度就超出3000亿美元,根据所述数据信息不会太难发觉,在我国半导体材料市场容量十分大,但为什么中国沒有半导体材料生产商站出去抢占市场?缘故非常简单,我国芯片产业链发展比较晚,就硬实力来讲,各生产商属于力不从心。

就算是内地技术*秀的中芯,芯片制造加工工艺也不过是滞留在14nm环节,并且由于沒有高端光刻机扶持的原因,将来中芯工艺提升总是越来越难。但是,近期上海微电子传来一个喜讯。据了解,上海微电子选用紫外线源完成28nm加工工艺,促使国产光刻机技术性迈入重大进展。

要了解现阶段*秀的EUV光刻技术還是选用13.5nm光波长技术,而22nm技术则是13.5nm技术性以后,*秀的光刻机技术性。上海微电子也凭此技术跨越众多日本国光刻机生产商,变成仅次ASML的第二大光刻机企业。此成效也向全球证实,光刻机技术性强大的并不仅有ASML。

假如上海微电子所研发的此项技术平稳,可以完成规模生产,那麼对中国芯片加工制造业的发展趋势毫无疑问将具有极大协助。拥有国产光刻机机器设备,美国就没法随便运用封禁芯片加工厂,在我国芯片自力更生能力可能大幅度提高。乃至很有可能,我国摇身一变从芯片进口强国变为出口强国。

自然,国产光刻机的兴起也并不是一朝一夕,上海微电子现阶段仅仅完成了该加工工艺,具体运用怎样还需进一步明确。并且,就算*上海微电子取得成功造出22nm光刻机,但还要认知到,在我国高端光刻机品质与ASML光刻技术品质对比,依然拥有很大差别。

到了现在,就越发觉光刻机技术要求越来越高,要想在更多方面完成技术提升,便会越来越艰难。自然,综合看来,上海微电子完成22nm光刻机的研发对我国半导体产业及其芯片制造商来讲,全是激励人心的喜讯。上海微电子也为别的公司在开展技术提升时,开了一个好头。



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